دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 2
نویسندگان: Rointan F. Bunshah
سری:
ISBN (شابک) : 0815513372, 9780815517450
ناشر: William Andrew
سال نشر: 1995
تعداد صفحات: 885
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 30 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings: Science, Applications and Technology (Materials Science and Process Technology Series. Electronic Materials and Process Technology) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب راهنمای فناوریهای رسوبگذاری برای فیلمها و پوششها: علم، کاربردها و فناوری (سری علم مواد و فناوری فرآیند. فناوری مواد و فرآیند الکترونیکی) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این ویرایش دوم، ویرایش شده توسط دکتر روینتین بونشاه مشهور جهان، بهروزرسانی گستردهای از پیشرفتهای بسیاری در فناوریها، مکانیسمها و برنامههای رسوبگذاری است. به طور قابل توجهی مواد بیشتری در فرآیندهای رسوب بخار به کمک پلاسما و همچنین کاربردهای پوشش متالورژیکی اضافه شد.
This second edition, edited by the world-renowned Dr. Rointain Bunshah, is an extensive update of the many improvements in deposition technologies, mechanisms, and applications. Considerably more material was added in Plasma Assisted Vapor Deposition processes, as well as Metallurgical Coating Applications.
Content:
Front Matter
Preface
Table of Contents
1. Aerosol Filtration Technology
2. Instrumentation for Aerosol Measurement
3. Clean Room Garments and Fabrics
4. Guidelines for Clean Room Management and Discipline
5. Electrostatics in Clean Rooms
6. Ultra High Purity Water - New Frontiers
7. Deionized (DI) Water Filtration Technology
8. Monitoring Systems for Semiconductor Fluids
9. Particles in Ultrapure Process Gases
10. Contamination Control and Concerns in VLSI Lithography
11. Contamination Control in Microelectronic Chemicals
12. Surface Particle Detection Technology
13. Particle Contamination by Process Equipment
14. Wafer Automation and Transfer Systems
Glossary
Index