دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Developments in Surface Contamination and Cleaning - Methods for Removal of Particle Contaminants
دانلود کتاب پیشرفت در آلودگی و تمیز کردن سطح - روش‌های حذف آلاینده‌های ذرات
مشخصات کتاب
Developments in Surface Contamination and Cleaning - Methods for Removal of Particle Contaminants
ویرایش:
نویسندگان: Rajiv Kohli. Kashmiri L. Mittal
سری:
ISBN (شابک) : 1437778305, 9781437778304
ناشر:
سال نشر: 2009
تعداد صفحات: 302
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 9 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 37,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Developments in Surface Contamination and Cleaning - Methods for Removal of Particle Contaminants به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب پیشرفت در آلودگی و تمیز کردن سطح - روش‌های حذف آلاینده‌های ذرات نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب پیشرفت در آلودگی و تمیز کردن سطح - روش‌های حذف آلاینده‌های ذرات
Rajiv Kohli و Kash Mittal کار متخصصان بخش‌ها و زمینه‌های مختلف صنعت را گرد هم آورده‌اند تا یک نظرسنجی پیشرفته و بهترین راهنمایی‌های عملی را برای دانشمندان و مهندسین درگیر در تمیز کردن سطوح یا رسیدگی به عواقب آلودگی سطح فراهم کنند. موضوعات تحت پوشش عبارتند از: یک رویکرد تحلیل سیستم برای کنترل آلودگی عوامل فیزیکی که بر رفتار رسوب ذرات در محفظه ها تأثیر می گذارند مروری بر مدل های بازده فعلی و توصیف مدل های پیشرفته انواع پوشش های strippable، خواص آنها و کاربردهای این پوشش ها برای حذف آلودگی های سطحی. پوشش عمیق تمیز کردن اولتراسونیک مسائل آلودگی و تمیز کردن در مقیاس نانو نتایج تجربی نشان‌دهنده تأثیر پارامترهای مدل بر حذف آلودگی ذرات. مشارکت متخصصان در این کتاب منبع ارزشمندی از اطلاعات در مورد وضعیت فعلی و پیشرفت‌های اخیر در زمینه آلودگی سطحی است. و تمیز کردن این کتاب برای صنعت، دولت و پرسنل دانشگاهی درگیر در تحقیق و توسعه، تولید، فرآیند و کنترل کیفیت، و مشخصات تدارکات در بخش‌هایی از جمله میکروالکترونیک، هوافضا، اپتیک، زیروگرافی و اتصال (پیوند چسب) ارزشمند خواهد بود. درباره ویراستاران راجیو کوهلی یک متخصص برجسته در شرکت هوافضا در رفتار ذرات آلاینده، تمیز کردن سطوح و کنترل آلودگی است. او در مرکز فضایی ناسا جانسون در هیوستون، تگزاس، پشتیبانی فنی برای کنترل آلودگی مربوط به سخت‌افزار پروازهای فضایی مبتنی بر زمین و سرنشین برای شاتل فضایی، ایستگاه فضایی بین‌المللی و برنامه جدید صورت فلکی که برای دیدار با ایالات متحده طراحی شده است، ارائه می‌کند. چشم انداز اکتشاف فضایی کشمیری لعل \"کش\" میتال از سال 1972 تا 1994 با IBM در ارتباط بود. وی در حال حاضر به تدریس و مشاوره در زمینه آلودگی و تمیز کردن سطوح و علوم و فناوری چسبندگی مشغول است. او سردبیر مجله علوم و فناوری چسبندگی است و ویراستار 98 کتاب منتشر شده است که بسیاری از آنها با آلودگی و تمیز کردن سطوح سروکار دارند. همچنین توسعه‌های موجود در آلودگی سطحی و تمیز کردن، جلد 1: مبانی و جنبه‌های کاربردی (ویرایش شده توسط راجیو کوهلی و کی‌ال میتال). ISBN: 9780815515555. راهنمایی در مورد بهترین روش های تمیز کردن و جلوگیری از آلودگی سطحی ارائه می دهد. پوشش آلودگی و مسائل تمیز کردن در مقیاس نانو شامل نگاهی عمیق به تمیز کردن اولتراسونیک
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Rajiv Kohli and Kash Mittal have brought together the work of experts from different industry sectors and backgrounds to provide a state-of-the-art survey and best practice guidance for scientists and engineers engaged in surface cleaning or handling the consequences of surface contamination. Topics covered include: A systems analysis approach to contamination control Physical factors that influence the behavior of particle deposition in enclosures An overview of current yield models and description of advanced models Types of strippable coatings, their properties and applications of these coatings for removal of surface contaminants In-depth coverage of ultrasonic cleaning Contamination and cleaning issues at the nanoscale Experimental results illustrating the impact of model parameters on the removal of particle contamination The expert contributions in this book provide a valuable source of information on the current status and recent developments in surface contamination and cleaning. The book will be of value to industry, government and academic personnel involved in research and development, manufacturing, process and quality control, and procurement specifications across sectors including microelectronics, aerospace, optics, xerography and joining (adhesive bonding). ABOUT THE EDITORS Rajiv Kohli is a leading expert with The Aerospace Corporation in contaminant particle behavior, surface cleaning, and contamination control. At the NASA Johnson Space Center in Houston, Texas, he provides technical support for contamination control related to ground-based and manned spaceflight hardware for the Space Shuttle, the International Space Station, and the new Constellation Program that is designed to meet the United States Vision for Space Exploration. Kashmiri Lal "Kash" Mittal was associated with IBM from 1972 to 1994. Currently, he is teaching and consulting in the areas of surface contamination and cleaning, and in adhesion science and technology. He is the Editor-in-Chief of the Journal of Adhesion Science and Technology and is the editor of 98 published books, many of them dealing with surface contamination and cleaning. Also available Developments in Surface Contamination and Cleaning, Volume 1: Fundamentals and Applied Aspects (edited by Rajiv Kohli & K.L. Mittal). ISBN: 9780815515555. Provides guidance on best-practice cleaning techniques and the avoidance of surface contaminationCovers contamination and cleaning issues at the nanoscaleIncludes an in-depth look at ultrasonic cleaning
فهرست مطالب
Content:
Front Matter
• Preface
• Table of Contents
1. Particle Deposition onto Enclosure Surfaces
2. Contamination Control: A Systems Approach
3. Particles in Semiconductor Processing
4. Continuous Contamination Monitoring Systems
5. Strippable Coatings for Removal of Surface Contaminants
6. Ultrasonic Cleaning
Index
